对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。
我国经济存在多重二元结构，其中影响最大的二元结构是（）。
在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
城乡二元结构理论借鉴了经济学家（）的“二元经济”理论。
80C51含（）掩膜ROM。
在下列单片机芯片中使用掩膜ROM作为内部程序存储器的是（）
若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。https://assets.asklib.com/psource/2015122710254016668.jpg
投影掩膜版上的图形是由金属钽所形成的。
根据二元系相平衡规律，二元组分系统的最大自由度数为（）。
中国城乡二元结构是以二元户籍制度为核心的，它包括（）。
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）
交流二元二位继电器的“二元”是指两个互相独立又互相作用的交变电磁系统，二元是指有（）两种状态。
在下列单片机芯片中使用掩膜ROM作为内总程序存储器的是（）。
ROM又称掩膜只读存储器，它存储的内容（）
西方的“二元状态”与中国的“二元状态”是不同的。
中西最鲜明的文化差别在于“二元综合”与“二元对立”。
城乡二元结构理论借鉴了经济学家()的"二元经济"理论。
所设计MEMS器件版图上布置有对准标记用于加工时多层掩膜版间的对正。（)
对于同样电路图形的光学曝光，既可以用正胶来实现，也可以用负胶来实现，只是掩膜不同。
14、只读存储器ROM一般可分为：掩膜ROM、PROM、 、 四种。答案用“、”隔开。
8、进行图像范围掩膜时，待处理图像与工作范围图像应该
5、在曝光之前需要将掩膜版上的对准记号与硅片上的对准记号对准，该工序称为： 。
51、光刻时需要多片掩膜版，每一掩膜版的图形都需要进行： 。
