X射线荧光光谱法分析金属样品，分析面的光洁程度直接影响（）
X射线荧光分析标准添加法和稀释法中，仍需要标准和校准曲线。
X射线荧光光谱仪漂移校正方法分（）和（）两类。
X射线荧光光谱法中，处理粉末样品的方法主要有压片法和（）
X射线荧光光谱法中，分析微量Al的样品不能用（）磨料抛光。
X射线荧光光谱法中，当试样的有效照射面积缩小时，元素的X射线荧光强度（）。
X射线荧光光谱分析散射背景内标法是用由连续谱线的散射线构成的本底（背景）为内标的校正方法。
X射线荧光分析粉末试样时，采用玻璃熔片法可以消除（）带来的分析误差。
X射线荧光光谱法为了获得准确的定量分析结果，应使用有证的标准样品，标准样品与分析试料的（）尽可能一致。
X射线荧光光谱分析中，适当选择分析晶体是消除谱线重叠干扰方法之一。
X射线荧光光谱分析康普顿散射线内标法不能校正基体的吸收效应，只能校正增强效应。
X射线荧光光谱内标法，即把一定量的内标元素加入到标准试料及分析试料中，以标准试料中分析元素与内标元素的X射线荧光强度比与分析元素含量绘制校准曲线。测定分析试料的分析元素与内标元素的X射线荧光强度比，从校准曲线求得分析元素含量。
X射线荧光光谱法分析线的强度与分析面的磨纹方向有关，因此，在测量时采取转动试样的方法，以减少误差。
X射线荧光光谱法是对元素的（）进行分析。
X射线荧光光谱法中，当试样的有效照射面积增大时，谱线的强度（）。
X射线荧光光谱标准加入法可通过（）求得试样的分析结果。
X射线荧光光谱分析是相对分析方法，需要通过测试（）来确定待测样品的含量。
X射线荧光光谱分析的基体效应的数学校正一般分为三类，即（）。
X射线荧光光谱法可以分析所有的元素。
X射线荧光采用内标法分析时选择内标的原则有哪些？
X射线荧光光谱分析康普顿散射线内标法是根据靶线的康普顿散射线的强度很敏感地受样品成分的影响而设计的分析方法。
X射线荧光光谱法基本上是一种（）分析法。
在X射线荧光光谱法中的基体和基体效应
X射线荧光光谱法分析金属样品，对分析面的要求是什么？
