关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。

A . 该布图设计必须投入商业实施 B . 受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中 C . 布图设计应具有独创性 D . 受保护的布图设计必须办理登记手续

时间:2022-11-09 04:12:39 所属题库:知识产权保护与管理实务题库

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