以下哪些是光毒反应的特征（）

A . 表现为日晒伤症状 B . 皮损限于日晒部位 C . 任何个体均可发生 D . 被动转移试验阳性 E . 接触光感物质浓度高，需强光照射

A . 工作波长 B . 平均发送光功率 C . 光源消光比 D . 边摸抑制比 E . 接收机灵敏度

A . 反应与日光照射强度有关 B . 皮损局限在日晒部位，表现为日晒伤症状 C . 发病急，病程短，脱离环境可自愈 D . 任何人均可发生 E . 属免疫性反应

A . 表现照片主题 B . 表现形状、色彩、质感 C . 表现立体感与空间感 D . 营造气氛

A . 前者可发生于任何个体，而后者只发生于少数个体 B . 前者可表现为水疱，而后者不表现为水疱 C . 前者均为急性起病，而后者均为慢性起病 D . 前者可能诱导皮肤肿瘤，而后者一般不引起肿瘤发生

A . 晒斑 B . 光老化 C . 光致癌 D . 水疱

A . 多发生于曝光后7~8小时 B . 只出现在曝光部位 C . 任何人均可发生 D . 皮疹与晒斑相似 E . 有一定潜伏期

A . A．潜伏期一致 B . B．皮损形态 C . C．光生物学试验 D . D．均可由UVB引起

A . 只读式光盘存储器 B . 一次写光盘存储器 C . 可擦写光盘存储器 D . 光盘库系统

A . 潜伏期一致 B . 皮损形态 C . 光生物学试验 D . 均可由UVB引起

A . 趋化因子 B . 单线态氧 C . 蛋白酶 D . 超氧阴离子自由基

A . A．趋化因子 B . B．单线态氧 C . C．蛋白酶 D . D．超氧阴离子自由基

A . A．磺胺类抗菌药 B . B．青霉素类抗生素 C . C．四环素类抗生素 D . D．补骨脂类药物

A . 光纤活动连接器 B . 光衰减器 C . 光分路器 D . 波分复用器

A . 位移随周期增大而减小 B . 阻尼比的增大使地震反应减小 C . 加速度反应随结构自振周期增大而减小 D . 场地的影响，软弱的场地使地震反应的峰值范围加大 E . 加速度反应随结构自振周期增大而增大

A . 任何个体均可发生 B . 有潜伏期 C . 皮损限于暴露部位 D . 被动转移试验阴性 E . 表现为日晒伤症状

A . A．前者可发生于任何个体，而后者只发生于少数个体 B . B．前者可表现为水疱，而后者不表现为水疱 C . C．前者均为急性起病，而后者均为慢性起病 D . D．前者可能诱导皮肤肿瘤，而后者一般不引起肿瘤发生

A . A．晒斑 B . B．光老化 C . C．光致癌 D . D．水疱

A . 多发生于曝光后7~8小时 B . 只出现在曝光部位 C . 任何人均可发生 D . 皮疹与晒斑相似 E . 有一定潜伏期

A．与日光强度有关，而与个体无关 B．无潜伏期，常急性发作 C．皮损局限于日晒部位 D．病程短 E．非免疫反应

A．1 B．12 C．24 D．48 E．无时间限制

是 否