第二次世界大战以后,电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致()及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
《环境甲基汞的测定气相色谱法》(GB/T17132—1997)适用于水和废水、沉积物、()、()和人尿中甲基汞的测定。
化学气相沉积是非均相反应,反应所需的活化能()相同的均相反应。
从整个生物圈的观点出发,生物地球化学循环可分为气相型循环和沉积型循环,下列哪些元素属气相型:()
CVD为化学气相沉积技术的简称。
简述化学气相沉积工艺过程的要点。
化学气相浸渍法(CVI)是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。
物理气相沉积(PVD)
物理气相沉积
既能按气相型循环,又能按沉积型循环的元素是()。
制备石英光纤有多种方法,其中等离子体化学气相沉积法的缩写是()
低压化学气相淀积与常压化学气相淀积法相比,优点有?
经化学气相沉积法对表面硬化处理后的模具可使模具寿命提高()倍。
下列哪种纤维的制备方法是采用气相沉积法()
物理气相沉积方法制得的铝层致密度高于一般铝箔。
高温陶瓷涂层的施涂方法主要有()、()、低温烘烤补强法和气相沉积法等。
题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。
芯材上气相沉积B的结构最佳为()。
某开发区拟建设一集成电路项目,项目规模为建设8英寸0.35~0.18m芯片(月投产4000片);12英寸(3.048cm)先进制程线,0.13~0.09m芯片工艺为主。芯片生产工序主要有外购硅片清洗、氧化、光刻、蚀刻、扩散、离子植入、化学气相沉积、金属化、后加工等。 根据上述资料,回答下列问题。1.简述该项目建设与相关产业政策的符合性分析。2.确定该项目大气预测因子和水评价因子。3.确定该项目的固
3、芯材上气相沉积B的结构最佳为
3、微晶硅薄膜的热丝化学气相沉积方法中,钨丝和钽丝是最常用的两种热丝材料。
4、芯材上气相沉积不定型B的最佳温度范围为
7、以下技术属于物理气相沉积的有()